UV
레이저 마킹 머신
유리에 새깁니다. 실제로 평면 유리에 UV 레이저 마킹은 레이저의 피크 출력, 최종 초점 지점 크기 및 검류계 속도와 직접적인 관련이 있습니다.
우리는 때때로 고출력 레이저의 빛이 유리 표면을 에칭하지 않고 직접 통과한다는 것을 발견했습니다. 이는 레이저의 피크 출력이 충분하지 않거나 에너지 밀도가 충분히 집중되지 않기 때문입니다. 피크 전력은 레이저 크리스탈, 펄스 폭 및 주파수의 영향을 받습니다. 펄스폭이 좁고 주파수가 낮을수록 레이저의 피크 출력은 높아집니다. 에너지 밀도는 레이저 빔의 스폿 크기와 빔 품질 M2의 영향을 받습니다(레이저 빔을 측정하는 기준은 가우시안 빔에 가까운 레이저 빔의 값, 가우시안 빔 M2u003d1을 나타냄). 고배율 빔 확장기를 사용하여 스폿 크기를 변경할 수 있습니다. M2는 레이저 자체의 빔 품질에 의해서만 결정될 수 있습니다. M2가 작을수록, 빔 확장기 배율이 클수록, 에너지 밀도는 더 집중됩니다.
일부는 유리 표면에 에칭될 수 있지만 여전히 누출 현상이 발생하고 펄스에 의해 형성된 일부 지점이 유리에 가라앉아 내부 조각을 형성합니다. 이 경우 피크를 사용할 수 있습니다. 가공 효과를 향상시키는 고출력 레이저 및 고배율 빔 확장기.
또한, 레이저 빔이 유리 표면에 접촉하는 시간도 유리 표면의 에칭 효과에 영향을 미칩니다. 접촉 시간이 너무 길면 유리 표면이 너무 깊게 닿을 수 있고, 너무 짧으면 누출이 발생할 수 있습니다. 더 나은 처리 효과를 얻으려면 검류계의 스캔 속도를 적절한 값으로 변경하기만 하면 됩니다. 그러나 스캐닝 속도는 레이저 자체의 주파수에 의해서도 영향을 받으며, 주파수가 너무 낮으면 누출이 발생할 수도 있다는 점에 유의해야 합니다.
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